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【Web,現地】第29回未来科学オープンセミナー「半導体の高性能化を担うフォトレジストとは」(2025/1/7開催)

ポスター

未来科学オープンセミナーでは、東北大学未来科学技術共同研究センターで行っている研究の成果や独創的な開発研究を、分かりやすくご紹介いたします。

開催概要

講演題目:
半導体の高性能化を担うフォトレジストとは
―半導体フォトレジストの開発現況と半導体産業の動向―

日  時:2025年1月7日(火)
13:30開場 14:00開始

開催形式:現地開催+オンライン

会  場:未来科学技術共同研究センター本館5階大会議室

申込方法:申込フォームから

申込締切:2025年1月6日(月)

主催等

主催:未来科学技術共同研究センター

協賛:日本工学アカデミー東北支部?北海道支部

問い合わせ先

未来科学技術共同研究センター開発企画部
未来科学オープンセミナー事務局
TEL:022-795-4004
Email:mirai*ml.niche.tohoku.ac.jp(*を@に置き換えてください)

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